邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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    源自德國工藝,專為科研而造-M6 勻膠旋涂儀

    閱讀:133 發(fā)布時間:2020/08/13

    M6 Spin Coater可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片,使用無刷直流雙向旋轉(zhuǎn)馬達控制,轉(zhuǎn)速穩(wěn)定,控制器可拆卸配合手套箱使用,4.3寸全彩觸屏人機界面操作,簡單易用。M6 Spin Coater外形美觀,結(jié)構(gòu)緊湊,專為實驗室,研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)部門提供性價比高的勻膠涂覆設(shè)備。M6 Spin Coater在材料、化學(xué)或生物等實驗室被廣泛用于薄膜制備,納米薄膜研究等相關(guān)領(lǐng)域。

     

    二、技術(shù)參數(shù)

    1.保護氣體裝置:旋涂過程中對旋轉(zhuǎn)馬達進行氣流保護(可選擇取消);

    2.支持Wafer尺寸:小標配為10 mm,可選配到3mm或5mm;大到直徑6英寸(150mm)的圓片或邊長5x5英寸(125x125mm)的方片,無需更換片托;

    3.設(shè)備材質(zhì):全部采用易清潔的NPP天然聚丙烯材質(zhì),環(huán)保,抗震,耐腐蝕;

    4.無刷馬達:直流雙向旋轉(zhuǎn),正反旋轉(zhuǎn)速度±100~±12000rpm,穩(wěn)定性能誤差±1rpm

    5.馬達安全模式:可設(shè)置非真空模式,轉(zhuǎn)速3000rpm,加速度500rpm/s;

    6.加速度可控范圍:100-30000RPM/S;

    7.工藝時間:每步可以設(shè)定45小時,精度不超過0.1秒;

    8. PLC控制:4.3英寸全彩觸摸屏高精度PLC可編程的控制器;

    9.程序段:可存儲99個程序段,每個程序段可設(shè)置50個不同步驟的速度狀態(tài);

    10.無油真空泵:220V/50Hz;真空吸附范圍25-28 英寸汞柱 (~635-711毫米汞柱)可調(diào)節(jié);

    11.擴展功能:可升級預(yù)留端口,可擴展自動滴膠裝置、自動去邊裝置、手動去邊等選配項。

     

    三、設(shè)備性能特點

    馬達控制:無刷直流雙向旋轉(zhuǎn);

    智能程控:控制器可拆卸,4.3英寸寸全彩觸屏,配有智能觸碰筆,按鍵有提示音,選中功能有顏色區(qū)分,適用于手套箱;

    腔體材質(zhì):易清潔的NPP天然聚丙烯材質(zhì),抗腐蝕性;

    模式切換:可自由切換單步模式、多步模式和曲線分析圖;

    防止堵膠:雙真空腔設(shè)計;

    預(yù)留端口:可升級擴展其他多種選配項;

    密碼功能:設(shè)有開機密碼和管理員密碼,管理員有權(quán)限修改核心參數(shù);

    安全報警:系統(tǒng)蓋板嵌鎖、真空異常、通氣異常、系統(tǒng)進膠、馬達轉(zhuǎn)速異常均會報警,通過聲音和界面對話框提示;

    氣流保護:旋涂過程中對馬達進行氣流保護(也可選擇取消),易維護,易清潔,大幅提高馬達使用壽命;

     

    四、應(yīng)用領(lǐng)域

    • 半導(dǎo)體芯片制造
    • 鈣鈦礦太陽能電池制備
    • 微納和微流控
    • 納米薄膜
    • 高分子材料
    • 有機光伏
    • 有機發(fā)光二極管
    • 有機場效應(yīng)晶體管&薄膜晶體管
    • 石墨烯&二維材料

     

    主營產(chǎn)品:

    Laurell勻膠機     

    Harrick等離子清洗機

    Thetametrisis膜厚儀  

    Microxact探針臺

    ALD原子層沉積系統(tǒng)

    TRION反應(yīng)離子刻蝕機

    Uvitron紫外固化箱

    NXQ紫外曝光光刻機       

    Novascan紫外臭氧清洗機

    Nilt納米壓印機

    Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

    Annealsys高溫退火爐

    Kinematic程序剪切儀

    Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)     

    Wabash/Carver自動壓片機




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